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PECVD镀膜即等离子气象化学沉积,制备氮化硅薄膜的化学反应方程式为:SiH4+NH3→Si3N4+H2↑。氮化硅薄膜的基本制备方法是:在反应腔室通入适量的反应气体SiH4和NH3,在低温和微波电离环境下经一系列化学反应和等离子体反应,在硅片表面形成氮化硅薄膜。

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日前,我们获得了一张疑似上海大众全新车型——NMC量产版的官图,新车级别为紧凑型,其未来产品定位在轿跑车上,更注重突出运动特性。据悉,NMC量产版将于8月29日开幕的成都车展正式首发,并有望于2015年初正式上市。

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